真空技術與新型永磁材料

新型永磁材料釹、鐵、硼（Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ）是１９８３年出現的第三代稀土永磁材料，它的磁能積比釤－鈷（ＳｍＣＯ２）永磁合金高一倍，比鋁鎳鈷（Ａｉ－Ｎｉ－Ｃｏ）ＧＡＯ?。丁繁?，比鐵氧體高十幾倍，因而引起磁學界極大的關注和制造廠用戶的濃厚興趣。由于我國釹儲量占世界總儲量的８０％，因此大力開發釹鐵硼永磁材料的研究和生產油淬真空爐、氣淬真空爐、真空回火爐、退火真空爐，具有廣闊的前景和重要的經濟價值。

釹是化學性極為活潑的元素，因此釹鐵硼永磁材料的真個制作工藝幾乎全部在無氧的真空環境下進行。首先是制備成份合適的母合金，其有效的制備工藝就是真空熔煉。將合金變成粉末也必須在無氧條件下進行，就以機械破碎而言，離不開密封技術。氣流粉碎則以真空密封系統為基礎，附加一系列專用機構。磁體的燒結、熱處理更必須在真空或保護氣氛下進行。Z后磁體表面涂層也用到了真空浸漬或離子鍍技術。

在高緯度的溫帶和寒冷地區，如果采用沒有鍍膜的雙層中空玻璃，室內的能量其中有８０％是通過玻璃而傳輸到室外。如在雙層中空玻璃的內側一表面鍍上低輻射膜，熱量傳輸損失可降低到４０％。這類低輻射膜比較理想的是氧化銦錫膜，其可見光透過率約為７５％，紅外反射率達９０％。

除了上述的遮陽膜和隔熱膜外，還有一種“遮陽和隔熱兼有“的膜層，這類膜的材料可采用金、銀、銅這三類有選擇的金屬，一般是將金屬夾在二層氧化物之間，一改進附著強度和保護金屬鍍層。他繞在可見光范圍有較高的透過率，在紅外范圍內又有較高的反射率。

Z近國外又研制成汽車風擋玻璃的夾層導電膜，這種夾層模式有上下二層保護性透明氧化膜和中間一層低電阻的金屬膜所組成，其薄膜電阻是４～４ . ５歐姆／塊，可見光透過率７５％以上，當通電后能在－１７　的氣溫下降３毫米冰層在２分鐘內溶化完。

    再鍍膜工藝方面，上述幾種不同功能的玻璃都是采用磁空間設計數來制作。由于磁控濺射法操作簡單可控、鍍層均勻、重復性良好，所以真空鍍膜建筑玻璃已進入工業生產階段。